納米光觸媒二氧化tai分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉(zhuǎn)子區(qū)產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經(jīng)過數(shù)次循環(huán),完成分散過程。
納米光觸媒二氧化tai分散機
高剪切研磨分散機XMD2000溶解到純凈水中,或者蒸餾水,去離子水等,做成光觸媒水溶液,直接噴涂于墻壁,家居表面,以及汽車室內(nèi)等可以迅速的捕捉并分解室內(nèi)的甲醛,苯,氨等有害氣體,除味效果好。
納米材料是指兩相顯微結(jié)構(gòu)中至少有一相的一維尺度達到納米級。納米粒子粒徑很小,表面能很大,極易團聚此,所以如何制取納米粒子本身就是一個非常復(fù)雜的技術(shù)問題,如何能夠使用納米材料均勻的穩(wěn)定的分散而不團聚是納料技術(shù)的核心工作,納米的定義也要在納米材料以能夠?qū)崿F(xiàn)的功能,體現(xiàn)出納米效應(yīng)為主要依據(jù)。
影響納米材料分散要素:
1、分散介質(zhì)
(1)根據(jù)粘度不同,分散介質(zhì)分為高粘度、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質(zhì)中,如水和有機溶劑,納米材料易于分散。中粘度介質(zhì)如液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠等,高粘度介質(zhì)如熔融態(tài)的塑料。
2、分散劑
(1)分散劑的選擇,與分散介質(zhì)的結(jié)構(gòu)、極性、溶度參數(shù)等密切相關(guān)。
(2)分散劑的用量,與納米材料比表面積和共價鍵修飾的功能基團有關(guān)。
(3)水性介質(zhì)中,推薦使用TNWDIS。強極性有機溶劑中,如醇、DMF、NMP, 推薦使用TNADIS。中等極性有機溶劑如酯類、液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠,推薦使用TNEDIS 。
3、分散設(shè)備
XMD2000進口超高剪切研磨分散機
研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。
以下為型號表供參考:
型號 | 標準流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 標準線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
XMD2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
XMD2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
XMD2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
XMD2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
XMD2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
XMD2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
納米光觸媒二氧化tai分散機