納米混懸液超高速膠體磨具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
納米混懸液超高速膠體磨
納米混懸液均質機,混懸液均質機,超高速均質機,Api混懸液均質機、紫杉醇納米混懸液均質機、酮洛芬納米混懸劑均質機、伊曲康唑納米混懸凝膠均質機、塞來昔布納米混懸劑均質機、布地奈德吸入用混懸液均質機是 均質化是混合不同物質以得到均一混合物的過程。均質化主要應用于互不相溶的及幾乎不能或者*不能溶混的組分。
納米混懸液均質機,混懸液均質機,超高速均質機,Api混懸液均質機、紫杉醇納米混懸液均質機
納米混懸特點:
納米混懸劑是“純的”納米藥物粒子的膠態(tài)分散體系,與傳統意義上基質骨架型納米體系不同,納米混懸劑無需載體材料,它是通過表面活性劑的穩(wěn)定作用,將納米尺度的藥物粒子分散在水中形成穩(wěn)定的分散體系。
由于納米混懸劑的特性,其在各種給藥途徑中都體現出*的優(yōu)勢:如處方簡單、制備快速、有利于降低活性化合物的篩選成本、提高藥物和生物利用度,摒除附加成分造成的刺激性和毒副作用以及較低的給藥體積等。
納米混懸劑的制備:
納米混懸劑的制備主要有兩個方面,即處方篩選和工藝優(yōu)化。處方篩選主要是選擇表面活性劑的種類及用量,以提高產品的長期穩(wěn)定性。工藝優(yōu)化是通過調整生產工藝和高壓均質機的壓力和循環(huán)次數等參數,獲得理想的粒徑分布
納米混懸液的制備方法主要有:碾磨法、超聲法和均質法。前兩種制備方法都有碾磨介質或者金屬殘留,而均質法的金屬殘留量低,并易于工業(yè)化生產
接均質法:
直接均質法是利用超高速均質機的造成的空化和氣穴效應,將微粉化的藥物顆粒進一步粉碎為納米尺度的粒子,同時降低藥物粒徑的多分散性。采用直接均質法可避免有機溶劑的加入,適用于既難溶于水也難溶于油的藥物,而且工藝的重現性比較好。產品的粒徑是由藥物本身的硬度、均質的剪切以及循環(huán)次數決定。通過調整超高速均質機的轉速和循環(huán)次數可以得到合適的粒徑分布。
應用案列:
Api混懸液、紫杉醇納米混懸液、酮洛芬納米混懸劑、伊曲康唑納米混懸凝膠、
塞來昔布納米混懸劑、布地奈德吸入用混懸液
設備特點:
互補進料、壓力重疊平穩(wěn);雙柱塞高壓實現、料液精細度高、PID峰值分布較窄;高壓雙重破碎、懸浮液穩(wěn)定、可實現長時間不分層。
研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產品。
第一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。
以下為型號表供參考:
型號 | 標準流量 L/H | 輸出轉速 rpm | 標準線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
XMD2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
XMD2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
XMD2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
XMD2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
XMD2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
XMD2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
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